Abschirmung für eine Ionenätzvorrichtung sowie Ionenätzvorrichtung

Abschirmung für eine Ionenätzvorrichtung, mit der von einer Ionenquelle (1) emittierte Ionenstrahlen auf eine Probe (7) abgestrahlt werden, um die Probe zu bearbeiten, wobei die Abschirmung (8, 10) an einer Position zwischen der Probe und der Ionenquelle und in Kontakt mit der Probe angeordnet ist, wobei die Abschirmung (8, 10) rund ist und in ihrer Mitte (11) eine Öffnung aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die Abschirmung (8, 10) um eine durch die Öffnung verlaufende Achse (11) gegenüber der Probe (7) drehbar befestigt ist. Disclosed is a shield (8, 10) disposed between an ion source (1) of an ion milling device and a sample (7) so as to be in contact with the sample. The shield is characterized by having a circular shape having an opening at the center, and by being capable of rotating about an axis (11) extending through the opening. Further, a groove is provided in the ion source-side surface of an end portion of the shield, and an inclined surface is provided on an end portion of the shield. Thus, an ion milling device having a shield, wherein the maximum number of machining operations can be increased, and the position of the shield can be accurately adjusted.