Verfahren und Anordnung zum redundanten Anoden-Sputtern mit einer Dual-Anoden-Anordnung

Verfahren zum redundanten Anoden-Sputtern mit einer Dual-Anoden-Anordnung, bei dem zwei Elektroden entgegengesetzt zueinander abwechselnd als Anode der Plasmaentladung und als Kathode zur Selbstreinigung während einer Ätzzeit betrieben werden und bei dem eine Kathode der Plasmaentladung wiederkehren...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	HEISIG, ANDREAS, MIRRING, ENNO, STRÜMPFEL, JOHANNES, TESCHNER, GÖTZ
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Verfahren zum redundanten Anoden-Sputtern mit einer Dual-Anoden-Anordnung, bei dem zwei Elektroden entgegengesetzt zueinander abwechselnd als Anode der Plasmaentladung und als Kathode zur Selbstreinigung während einer Ätzzeit betrieben werden und bei dem eine Kathode der Plasmaentladung wiederkehrend zum Abbau statischer Aufladung kurzzeitig umgepolt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Kathode (3) und die Elektroden (1; 2) aus einer Pulsstromversorgung (6) gespeist werden, die Umpolung der Kathodenspannung aus der Pulsstromversorgung (6) bewirkt wird, zu jedem Zeitpunkt mindestens eine Elektrode (1; 2) auf positivem Potential und zeitweise während einer Ätzzeit die andere Elektrode (1; 2) auf negativem Potential liegt, dass die Spannung an der Kathode (3) mittels der Pulsstromversorgung (6) im Zusammenwirken mit einer H-Brückenschaltung (V1...V4), die mit einem Taktgenerator (13) verbunden ist, mit einem Spannungsimpuls umgepolt wird, dessen Impulsdauer geringer ist als die Hälfte der Zeit bis zum nächsten Impuls und dass die Erzeugung der Kathodenspannung asynchron zu der Erzeugung der Anodenspannungen erfolgt.