Verfahren zum Ausbilden einer Halbleiteranordnung und Verfahren zum Ausbilden eines Transistors

Verfahren zum Ausbilden einer Halbleiteranordnung, das Verfahren umfassend: Bereitstellen eines Halbleiterkörpers (24); Durchführen einer amorphisierenden Ionenimplantation (10) zum Implantieren von Dotierstoffen eines ersten Leitfähigkeitstyps in den Halbleiterkörper (24), wobei die amorphisierende...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	HIERLEMANN, MATTHIAS
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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