Quarzglas mit hoher Brechungsindex-Homogenität und Verfahren zur Herstellung desselben
Synthetisches Siliciumdioxid-Glasmaterial mit einem OH-Gehalt von 0,1 bis 1.300 Gew. ppm mit einer Schwankung in der OH-Konzentration in einer Ebene senkrecht zu einer optischen Achse davon von weniger als 20 Gew. ppm, und das Schlieren in der Richtung der Achse, welche senkrecht zu der Ebene ist, i...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | Synthetisches Siliciumdioxid-Glasmaterial mit einem OH-Gehalt von 0,1 bis 1.300 Gew. ppm mit einer Schwankung in der OH-Konzentration in einer Ebene senkrecht zu einer optischen Achse davon von weniger als 20 Gew. ppm, und das Schlieren in der Richtung der Achse, welche senkrecht zu der Ebene ist, in der die OH-Schwankung weniger als 20 Gew. ppm beträgt, einschließt.
Disclosed are high purity synthetic silica glass material having a high OH concentration homogeneity in a plane perpendicular to the optical axis, and process of making the same. The glass has high refractive index homogeneity. The glass can have high internal transmission of at least 99.65%/cm at 193 nm. The process does not require a post-sintering homogenization step. The controlling factors for high compositional homogeneity, thus high refractive index homogeneity, include high initial local soot density uniformity in the soot preform and slow sintering, notably isothermal treatment during consolidation. |
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