Clean room device for manufacturing or production process for chemical, pharmaceutical, biological, medical, electronics, micromechanics or optical applications with modelling of gas flow dependent on production system

The clean room device (1) has a work plate (4) provided with openings (6) and a gas feed (3) positioned above the work plate for directing a gas into the working zone (5) between the gas feed and the work plate, extracted via the openings in the latter. A device (9) is provided between the gas feed and the work plate for modelling a flow profile for the gas flow dependent on a production system positioned on the work plate. An independent claim for application of the clean room device for use in a clean room with a lower purity level is also included. Es wird eine Vorrichtung (1) mit einer mit Öffnungen (6) ausgeführten Arbeitsplatte (4) und einer oberhalb der Arbeitsplatte (4) angeordneten Gaszuführung (3) beschrieben. Die Gaszuführung (3) ist derart oberhalb der Arbeitsplatte (4) angeordnet, dass in einem zwischen der Arbeitsplatte (4) und der Gaszuführung (3) ausgebildeten Arbeitsbereich (5) über die Gaszuführung (3) in den Arbeitsbereich (5) eingeleitetes Gas wenigstens teilweise über die Öffnungen (6) der Arbeitsplatte (4) aus dem Arbeitsbereich (5) abführbar ist. Zwischen der Gaszuführung (3) und der Arbeitsplatte (4) ist eine Einrichtung (9) zum Modellieren eines Strömungsprofiles des ausgehend von der Gaszuführung (3) in Richtung der Arbeitsplatte (4) strömenden Gases in Abhängigkeit eines auf der Arbeitsplatte (4) angeordneten Produktionssystems vorgesehen (Figur 1).