Vorrichtung und Verfahren zur Analyse einer Materialbibliothek

Es wird eine Vorrichtung zur Analyse einer Materialbibliothek vorgeschlagen, umfassend mindestens eine Strahlungsquelle für elektromagnetische Strahlung, die vor der Materialbibliothek angeordnet ist, und mindestens zwei parallel arbeitende Flächendetektoren, die jeweils ortsaufgelöst betreibbar sind und von denen der eine sensitiv für elektromagnetische Strahlung eines ersten Wellenlängenbereichs ist und der andere sensitiv für elektromagnetische Strahlung eines zweiten Wellenlängenbereichs ist (Figur). DOLLAR A Des weiteren wird ein Verfahren zur Analyse einer Materialbibliothek vorgeschlagen, bei dem die Materialbibliothek simultan mittels mindestens zweier Methoden untersucht werden, bei denen elektromagnetische Strahlung unterschiedlicher Wellenlängenbereiche genutzt wird. Die Strahlung wird hinter der Materialbibliothek wellenlängenabhängig aufgespalten und in Richtung mindestens zweier ortsauflösend arbeitender, flächig ausgebildeter Sensoren gelenkt. A device for analyzing a materials library includes at least one radiation source for electromagnetic radiation, which is positioned in front of the materials library, and at least two flat detectors operating in parallel, which are operable using high-sensitivity resolution and of which one is sensitive to electromagnetic radiation of a first wavelength range and the other is sensitive to electromagnetic radiation of a second wavelength range. Moreover, a method for analyzing a materials library in which the materials library is simultaneously tested using at least two methods in which electromagnetic radiation of different wavelength ranges is used. The beam is split behind the materials library as a function of wavelength and is deflected in the direction of at least two flat sensors operating using high-sensitivity resolution.