Apparatus for rinsing a lens such as a projector lens in a semiconductor manufacture system having a gas tight cut off valve controlled by a pressure sensor

The apparatus includes a rinse gas source with a gas supply line to the lens. A valve unit is provided in the gas line to at least approximately maintain a predetermined pressure in the lens. The valve unit has a gas tight cut off valve (21) which is controlled by a pressure sensor (23). The pressure sensor is preferably connected to the gas line. A throttle and a filter may also be provided in the gas line. Independent claims also cover a projection system including such a rinsing apparatus. Eine Vorrichtung zum Spülen eines Objektivs, insbesondere eines Projektionsobjektivs 7 einer Projektionsbelichtungsanlage 1, zur Herstellung von Halbleiterelementen ist mit einer Spülgasquelle 8 und mit einer Gaszufuhrleitung 9 zum Objektiv 7 versehen, wobei in der Gaszufuhrleitung 9 eine Ventileinrichtung angeordnet ist, durch die ein vorgewählter Druck in dem Objektiv 7 wenigstens annähernd einhaltbar ist. Die Ventileinrichtung weist ein gasdichtes Absperrventil 21 auf, das von einem Drucksensor 23 angesteuert ist.