Optical photometer comprises a reference cuvette and a measuring cuvette having the same structure and lying in the same radiation path arranged next to each other between a radiation source and a detector

Optical photometer comprises a reference cuvette (RC) and a measuring cuvette (MC) lying next to each other between a radiation source (EDL) and a detector. The cuvettes have the same structure and lie in the same radiation path. Die Erfindung betrifft ein optisches Fotometer mit Referenz- und Messstrahlengang, wobei zwischen Strahlenquelle und Detektor eine Referenzküvette und eine Messküvette angeordnet sind, gemäß Oberbegriff des Patentanspruches 1. Um hierbei zu erreichen, dass ein optisches Fotometer der gattungsgemäßen Art mit besserer Kompensation erzielt wird, welches die genannten Nachteile nicht mehr aufweist, ist erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die Referenzküvette (RC) und die Messküvette (MC) baugleich sind und in ein und demselben Strahlengang liegen.