Einrichtung und Verfahren zur örtlichen Schichtdickenmessung an einer Probe und/oder zur örtlichen Veränderung ihrer Dicke mit einem Elektronenstrahl
Eine Einrichtung zur örtlichen Schichtdickenmessung an einer Probe und/oder zur örtlichen Veränderung ihrer Dicke mit einem Elektronenstrahl besteht aus einer Elektronenkanone, einer Blende mit Fokussiereinrichtung, einem elektrisch leitenden Gitter, einer Strahlablenkeinrichtung, einer Probenhalter...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Eine Einrichtung zur örtlichen Schichtdickenmessung an einer Probe und/oder zur örtlichen Veränderung ihrer Dicke mit einem Elektronenstrahl besteht aus einer Elektronenkanone, einer Blende mit Fokussiereinrichtung, einem elektrisch leitenden Gitter, einer Strahlablenkeinrichtung, einer Probenhalterung, in die zu vermessende Proben derart eingespannt werden können, dass sie nacheinander durch Weiterbewegen senkrecht zur Strahlachse in den Elektronenstrahl exponiert werden. Die Probenhalterung wird einerseits um eine Achse senkrecht zur und durch die Strahlachse vor- und zurückgedreht, so dass die Flächennormale der gerade exponierten Probe stets senkrecht zu dieser Achse steht und auf jeden Winkel zur Strahlachse gestellt wird. DOLLAR A Die Einrichtung besteht weiter aus einem Auffänger für den durch die Probe getretenen Elektronenstrahl, einem an den Auffänger für den Elektronenstrahl angeschlossenen ersten Verstärker, einem an das Gitter angeschlossenen zweiten Verstärker, einer an die beiden Verstärker angeschlossenen Auswerteeinrichtung, einer Einrichtung zur Erzeugung einer Ablenkspannung, die mit ihrem Eingang mittelbar oder unmittelbar am Ausgang des zweiten Verstärkers und mit ihrem Ausgang an der Strahlablenkeinrichtung angeschlossen ist. |
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