Electron beam energy regulation method for electron source using at least 2 independent setting elements for regulation of different electron source operating parameters
The beam energy regulation method uses at least 2 independent setting elements (11,12) for automatic continuous power regulation of the electron source electron beam between zero and 1200 kW, each of the setting elements regulating one of the electron source operating parameters, e.g. the cathode te...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | The beam energy regulation method uses at least 2 independent setting elements (11,12) for automatic continuous power regulation of the electron source electron beam between zero and 1200 kW, each of the setting elements regulating one of the electron source operating parameters, e.g. the cathode temperature of the indirectly-heated cathode, the cathode voltage, the focusing electrode voltage or the cathode-anode spacing.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Regelung der Elektronenstrahlleistung von Elektronenquellen im Nennleistungsbereich von Null bis 1200 kW. Ihr liegt die Aufgabe zugrunde, eine automatische kontinuierliche Leistungsregelung über den gesamten Leistungsbereich zu schaffen, die eine gute Fokussierbarkeit des Elektronenstrahles und die Minimierung der internen Elektronenstrahlverluste ermöglicht. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe durch die Regelung von mindestens zwei unabhängigen Stellgliedern gelöst, welche jeweils einen der Parameter Katodentemperatur, Katodenspannung, Fokussierelektrodenspannung oder Katoden-Anoden-Abstand als Stellparameter verändern. |
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