Verfahren zur Bestimmung lokaler Strukturen in optischen Kristallen

Das beschriebene Verfahren zur Bestimmung lokaler Strukturen in optischen Materialien, wie z. B. Kristallen, umfaßt einen ersten Schritt der visuellen Bestimmung von Defekten, z. B. in Form sichtbarer Schlieren, im Material, einen zweiten Schritt, bei dem von lokalen Schlieren und Materialfehlern mit einer Ortsauflösung von mindestens 0,5 mm die Spannungsdoppelbrechung bestimmt wird, und einen dritten Schritt, bei dem Materialfehler mit derselben Ortsauflösung von 0,5 mm mittels Interferometrie bestimmt werden. Das Verfahren ist zur Herstellung optischer Elemente, insbesondere für die Mikrolithographie, geeignet. Method for detecting local structures in optical materials, especially crystals, whereby in a first step schlieren and optical inhomogeneities are detected using divergent white light, while in a second step polarized laser light is used with stress birefringence to detect local defects and structural defects with spatial resolution of at least 0.5 mm and in a third step an interferometric examination of the material is executed.