Verfahren zur Erzeugung einer Grabenstruktur in einem Polymer-Substrat

Zur Erzeugung einer Grabenstruktur mit steilen und rückstandfreien Seitenwänden in einem insbesondere glasfaserverstärkten Substrat (1) wird das Substrat mit einer konformen Maske (10) versehen, welche Aussparungen entsprechend der zu erzeugenden Grabenstruktur (3) aufweist. Der Laserstrahl (15) wir...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: LESJAK, STEFAN, PAN, WEI, STEUR, HUBERT DE
Format: Patent
Sprache:ger
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