Verfahren zur Erzeugung einer Grabenstruktur in einem Polymer-Substrat
Zur Erzeugung einer Grabenstruktur mit steilen und rückstandfreien Seitenwänden in einem insbesondere glasfaserverstärkten Substrat (1) wird das Substrat mit einer konformen Maske (10) versehen, welche Aussparungen entsprechend der zu erzeugenden Grabenstruktur (3) aufweist. Der Laserstrahl (15) wir...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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