Verfahren zur Erzeugung einer Grabenstruktur in einem Polymer-Substrat

Zur Erzeugung einer Grabenstruktur mit steilen und rückstandfreien Seitenwänden in einem insbesondere glasfaserverstärkten Substrat (1) wird das Substrat mit einer konformen Maske (10) versehen, welche Aussparungen entsprechend der zu erzeugenden Grabenstruktur (3) aufweist. Der Laserstrahl (15) wird dabei derart über die Aussparungen der Maske geführt, daß die energiearmen Randbereiche (5) des Laserstrahls (F¶L¶) abgeschirmt werden und der auf die Polymeroberfläche treffende Anteil (4) des Laserstrahls an jedem Punkt eine Energiedichte oberhalb einer Schwelle (F¶G¶) aufweist, bei der das Substratmaterial einschließlich einer gegebenenfalls vorhandenen Glasfaserverstärkung vollständig abgetragen wird. In order to produce a trench structure having steep sidewalls free of residues in an, in particular, glass-fiber-reinforced substrate, the substrate is provided with a conformal mask having cutouts corresponding to the trench structure to be produced. In this case, the laser beam is guided over the cutouts of the mask in such a way that the low-energy edge regions of the laser beam are shielded and that proportion of the laser beam which impinges on the polymer surface, at each point, has an energy density above a threshold at which the substrate material including a glass fiber reinforcement that is possibly present is completely removed.