Target material used e.g. in the manufacture of diamond-like carbon layers on a substrate contains glass-like carbon

Target material used e.g. in the manufacture of diamond-like carbon layers on a substrate contains glass-like carbon

Target material contains glass-like carbon. Es wird ein Kohlenstoff-Targetmaterial für PVD-Prozesse beschrieben, das aus Glaskohlenstoff besteht und vorzugsweise aus Segmenten zusammengesetzt ist. Das Targetmaterial ist zur Herstellung von Photomasken insbesondere von phasenschiebenden Masken für di...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: MOERSEN, EWALD, SCHNEIDER-STOERMANN, LUDGER
Format: Patent
Sprache:eng ; ger
Schlagworte:
CHEMICAL SURFACE TREATMENT
CHEMISTRY
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL
COATING METALLIC MATERIAL
DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL
INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL
METALLURGY
SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:Target material contains glass-like carbon. Es wird ein Kohlenstoff-Targetmaterial für PVD-Prozesse beschrieben, das aus Glaskohlenstoff besteht und vorzugsweise aus Segmenten zusammengesetzt ist. Das Targetmaterial ist zur Herstellung von Photomasken insbesondere von phasenschiebenden Masken für die Mikrolithographie, EUVL-Multilayerschichten, DLC-Ätz-Stoppschichten sowie von Entspiegelungsschichten auf optischen Elementen und dergleichen geeignet.