Spiegel mit Schichtspannungskompensation

Die Erfindung betrifft einen Spiegel (100) für eine Lithographieanlage (600,700), mit einem Spiegelkörper (101) umfassend ein Substrat (102), ein mehrschichtig ausgebildetes Reflexionsschichtsystem (103) und eine optische Wirkfläche (104), sowie mit mindestens einem Kontroller.Der Kontroller ist ein...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Schurer, Johannes, Leuermann, Martin, Hoffmann, Tim, Letscher, Fabian, Mack, Ruediger, Schneider, Eva
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft einen Spiegel (100) für eine Lithographieanlage (600,700), mit einem Spiegelkörper (101) umfassend ein Substrat (102), ein mehrschichtig ausgebildetes Reflexionsschichtsystem (103) und eine optische Wirkfläche (104), sowie mit mindestens einem Kontroller.Der Kontroller ist eingerichtet, mindestens einen Manipulator (105) derart zu steuern, dass dieser eine zeitlich variable Kompensationskraft zumindest bereichsweise in den Spiegelkörper (101) einbringt, die entgegen einer auf einer zeitlich variablen Schichtspannung basierenden Deformation des Spiegelkörpers (101) gerichtet ist. Die Erfindung betrifft darüber hinaus auch ein Verfahren zum Betreiben des Spiegels (100) und eine Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Spiegel.