Verfahren zum Betreiben eines EUV-Spiegelsystems, EUV-Spiegelsystem, Projektionsobjektiv für eine mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage, Computerprogrammprodukt

Verfahren zum Betreiben eines EUV-Spiegelsystems, wobei mit dem EUV-Spiegelsystem ein EUV-Strahlengang (38) definiert wird, der sich zwischen einer Objektebene (12) und einer Bildebene (21) erstreckt. Das EUV-Spiegelsystem umfasst einen EUV-Spiegel (M1-M6), an dem der EUV-Strahlengang (38) umgelenkt...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Schurer, Johannes, Kalden, Joachim, Gehrke, Ralf
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY CONTROLLING ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS REGULATING SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Verfahren zum Betreiben eines EUV-Spiegelsystems, wobei mit dem EUV-Spiegelsystem ein EUV-Strahlengang (38) definiert wird, der sich zwischen einer Objektebene (12) und einer Bildebene (21) erstreckt. Das EUV-Spiegelsystem umfasst einen EUV-Spiegel (M1-M6), an dem der EUV-Strahlengang (38) umgelenkt und geformt wird. Der EUV-Spiegel (M1-M6) wird in einer Vakuumkammer (23) betrieben. Ein Spülgas wird in die Vakuumkammer (23) eingeleitet. In einer ersten Betriebsphase wird der Druck des Spülgases auf einen Ausgangswert eingestellt. Eine in der ersten Betriebsphase auftretende Wellenfront-Aberration des EUV-Strahlengangs wird detektiert. In einer zweiten Betriebsphase wird der Druck des Spülgases auf einen Korrekturwert eingestellt wird, um eine Korrektur der Wellenfront-Aberration herbeizuführen. Die Erfindung betrifft auch ein EUV-Spiegelsystem, ein Projektionsobjektiv für eine mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage und ein Computerprogrammprodukt