BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR EINE LITHOGRAPHIEANLAGE, LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES BELEUCHTUNGSSYSTEMS EINER LITHOGRAPHIEANLAGE

Beleuchtungssystem (200) für eine Lithographieanlage (1) zum Beleuchten einer Photomaske (7) in einer Objektebene (6, 218) des Beleuchtungssystems (200), aufweisend ein optisches Element (202) und eine Lagervorrichtung (500) zum mechanischen Lagern des optischen Elements (202), wobei die Lagervorric...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Holderer, Hubert, Grimm, Andreas-Josef, Koerner, Christian
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Beleuchtungssystem (200) für eine Lithographieanlage (1) zum Beleuchten einer Photomaske (7) in einer Objektebene (6, 218) des Beleuchtungssystems (200), aufweisend ein optisches Element (202) und eine Lagervorrichtung (500) zum mechanischen Lagern des optischen Elements (202), wobei die Lagervorrichtung (500) aufweist:eine erste piezoelektrische Aktoreinheit (524) zum Einstellen einer Position des optischen Elements (202) auf eine Soll-Position (SP) basierend auf einer erfassten und/oder vorausgesagten Abbildungseigenschaft des Beleuchtungssystems (200), undeine zweite piezoelektrische Aktoreinheit (526) zum Kompensieren einer erfassten Schwingung des optischen Elements (202) um die Soll-Position (SP), undwobei die Lagervorrichtung (500) mindestens drei, bevorzugt mindestens vier, noch bevorzugter sechs Lagereinrichtungen (502, 504, 506, 508, 510, 512) mit jeweils einer ersten und einer zweiten piezoelektrischen Aktoreinheit (524, 526) umfasst.