Optische Baugruppe und Projektionsbelichtungsanlage

Die Erfindung betrifft eine optische Baugruppe (40) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1,101) für die Halbleiterlithografie mit mindestens einem optischen Modul (41) und mindestens einer Modulhalterung (35), wobei das optische Modul (41) über mindestens ein Lagerungselement (44) auf der Modulhal...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Doetzel, Eugen, Kruis, Johannes
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY INDUCTANCES MAGNETS MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES TRANSFORMERS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft eine optische Baugruppe (40) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1,101) für die Halbleiterlithografie mit mindestens einem optischen Modul (41) und mindestens einer Modulhalterung (35), wobei das optische Modul (41) über mindestens ein Lagerungselement (44) auf der Modulhalterung (35) gelagert ist, wobei das Lagerungselement das optische Modul (41) kontaktlos auf der Modulhalterung (35) lagert. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage (1,101) mit einer entsprechenden optischen Baugruppe.