VERFAHREN UND JUSTIERELEMENTSATZ

Ein Verfahren zum Auslegen eines Justierelementsatzes (100A, 100B) mit mehreren Justierelementen (102, 102A, 102B) zum Justieren einer Lage eines Bauteils (202, 202') einer Projektionsbelichtungsanlage (1), mit folgenden Schritten: a) Bestimmen (S1) eines von dem Justierelementsatz (100A, 100B)...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Fritzsche, Steffen, Baier, Juergen
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Ein Verfahren zum Auslegen eines Justierelementsatzes (100A, 100B) mit mehreren Justierelementen (102, 102A, 102B) zum Justieren einer Lage eines Bauteils (202, 202') einer Projektionsbelichtungsanlage (1), mit folgenden Schritten: a) Bestimmen (S1) eines von dem Justierelementsatz (100A, 100B) abzudeckenden Gesamtbereichs (G), der erforderlich ist, um die Lage des Bauteils (202, 202') zu justieren, b) Bestimmen (S2) einer Schrittweite (Δs) der Justierelemente (102, 102A, 102B), c) Bestimmen (S3) einer Wahrscheinlichkeit, mit der sich in ihrer Geometrie voneinander unterscheidende Justierelemente (102, 102A, 102B) zum Justieren der Lage des Bauteils (202, 202') jeweils erforderlich sind, und d) Bestimmen (S4) einer mindestens erforderlichen Anzahl von Justierelementen (102, 102A, 102B) für jede Geometrie.