Verfahren zum Trocknen einer medienführenden Leitung, Trocknungseinrichtung und Lithographiesystem

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Trocknen einer medienführenden Leitung (31b), insbesondere einer Temperierleitung, in einem Lithographiesystem, insbesondere in einem EUV-Lithographiesystem, umfassend: Ausblasen der Leitung (31b) mit einem Gas (36) zum Trocknen der Leitung (31b). Bei dem Verfahren wird eine Gaszuführung (33) in die Leitung (31b) eingeführt und das Gas (36) zum Ausblasen der Leitung (31b) tritt aus einem Gasauslass (34) der Gaszuführung (33) aus, wobei an der Gaszuführung (33) eine Dichtung (37) angebracht ist, die beim Ausblasen an einer Innenseite (38) der Leitung (31b) anliegt, um einen Zwischenraum (39) zwischen der Gaszuführung (33) und der Innenseite (38) der Leitung (31b) gasdicht zu verschließen. Die Erfindung betrifft auch eine Trocknungseinrichtung (32) zum Trocknen von medienführenden Leitungen (31b), sowie ein Lithographiesystem, das mindestens eine solche Trocknungseinrichtung (32) aufweist. The invention relates to a method for drying a media-conducting line (31b), in particular a temperature-control line, in a lithography system, in particular an EUV lithography system, comprising: purging the line (31b) with a gas (36) in order to dry the line (31b). During the method, a gas supply (33) is introduced into the line (31b) and the gas (36) for purging the line (31b) exits from a gas outlet (34) of the gas supply (33), wherein at the gas supply (33) a seal (37) is attached which, during purging, rests against an inner side (38) of the line (31b) in order to close an intermediate space (39) between the gas supply (33) and the inner side (38) of the line (31b) in a gas-tight manner. The invention also relates to a drying device (32) for drying media-conducting lines (31b), and to a lithography system which has at least one such drying device (32).