OPTISCHES SYSTEM UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE

Ein optisches System (100A, 100B) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend ein optisches Element (102, 102', 212), eine Tragstruktur (134, 214) zum Tragen des optischen Elements (102, 102', 212), und eine Schnittstelle (128A, 128B, 128C, 128D, 128E), mit deren Hilfe das optisc...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Oeztuerk, Semih, Limbach, Guido
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BLASTING BRAKES CINEMATOGRAPHY CLUTCHES COUPLINGS FOR TRANSMITTING ROTATION ELECTROGRAPHY ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVEFUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS HEATING HOLOGRAPHY LIGHTING MATERIALS THEREFOR MECHANICAL ENGINEERING OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS THERMAL INSULATION IN GENERAL WEAPONS
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Ein optisches System (100A, 100B) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend ein optisches Element (102, 102', 212), eine Tragstruktur (134, 214) zum Tragen des optischen Elements (102, 102', 212), und eine Schnittstelle (128A, 128B, 128C, 128D, 128E), mit deren Hilfe das optische Element (102, 102', 212) mit der Tragstruktur (134, 214) gekoppelt ist, wobei die Schnittstelle (128A, 128B, 128C, 128D, 128E) eine erste Hirth-Verzahnung (152), die dem optischen Element (102, 102', 212) zugeordnet ist, und eine zweite Hirth-Verzahnung (166), die der Tragstruktur (134, 214) zugeordnet ist, aufweist, und wobei die erste Hirth-Verzahnung (152) und die zweite Hirth-Verzahnung (166) formschlüssig ineinandergreifen, um eine Lage des optischen Elements (102, 102', 212) in einem Referenzkoordinatensystem (K) festzulegen. The invention relates to an optical system (100A, 100B) for a projection exposure system (1), having an optical element (102, 102', 212), a support structure (134, 214) for supporting the optical element (102, 102', 212), and an interface (128A, 128B, 128C, 128D, 128E), which is used to couple the optical element (102, 102', 212) to the support structure (134, 214), wherein the interface (128A, 128B, 128C, 128D, 128E) has a first Hirth-type toothing (152), which is paired with the optical element (102, 102', 212), and a second Hirth-type toothing (166), which is paired with the support structure (134, 214), and the first Hirth-type toothing (152) and the second Hith-type toothing (166) mesh with each other in a form-fitting manner in order to fix the position of the optical element (102, 102', 212) in a reference coordinate system (K).