Verfahren und Lasersystem zur Erzeugung von Sekundärstrahlung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung von Sekundärstrahlung, bei dem ein Targetmaterial (106) in einem Zielbereich (122) bereitgestellt wird, das Targetmaterial (106) in dem Zielbereich (122) mit einer Pulsfolge (118b) aus Laserpulsen (112) beaufschlagt wird, wobei durch Wechselwirkung des Targetmaterials (106) mit der Pulsfolge (118b) Sekundärstrahlung (108) erzeugt wird, wobei die Pulsfolge (118b) einen Vorpuls (112c) und einen dem Vorpuls (112c) nachlaufenden Hauptpuls (112b) aufweist, eine Pulsenergie des Vorpulses (112c) zwischen 2 µJ und 200 µJ und eine Pulsdauer (td2) des Vorpulses (112c) zwischen 200 fs und 5 ps beträgt, eine Pulsenergie des Hauptpulses (112b) zwischen 2 mJ und 50 mJ und eine Pulsdauer (td) des Hauptpulses (112b) zwischen 15 fs und 300 fs beträgt und wobei ein zeitlicher Pulsabstand (tz2) zwischen dem Vorpuls (112c) und dem Hauptpuls (112b) zwischen 1 ps und 1 ns beträgt. The invention relates to a method for generating secondary radiation, in which a target material (106) is provided in a target region (122), a pulse sequence (118b) made up of laser pulses (112) is applied to the target material (106) in the target region (122), wherein interaction of the target material (106) with the pulse sequence (118b) generates secondary radiation (108), wherein the pulse sequence (118b) comprises a prepulse (112c) and a main pulse (112b) trailing the prepulse (112c), a pulse energy of the prepulse (112c) is between 2 µJ und 200 µJ and a pulse duration (td2) of the prepulse (112c) is between 200 fs and 5 ps, a pulse energy of the main pulse (112b) is between 2 mJ and 50 mJ and a pulse duration (td) of the main pulse (112b) is between 15 fs and 300 fs and wherein a temporal pulse distance (tz2) between the prepulse (112c) and the main pulse (112b) is between 1 ps and 1 ns.