VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR ÜBERWACHUNG VON VERSCHMUTZUNGEN AN ENTLADEELEKTRODEN

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung sowie ein Verfahren zur Überwachung von Verschmutzungen an Entladeelektroden (3, 4, 5, 6, 7, 8) mit wenigstens einer Emissionsspitze (32), die der berührungslosen Entladung elektrisch aufgeladener Oberflächen dienen, wobei die Vorrichtung (100) Fol...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Hecht, Matthias, Knopf, Franz
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung sowie ein Verfahren zur Überwachung von Verschmutzungen an Entladeelektroden (3, 4, 5, 6, 7, 8) mit wenigstens einer Emissionsspitze (32), die der berührungslosen Entladung elektrisch aufgeladener Oberflächen dienen, wobei die Vorrichtung (100) Folgendes aufweist: einen Erdanschluss (21), welcher mit der Entladeelektrode (3, 4, 5, 6, 7, 8) verbunden oder verbindbar ist; und eine Steuereinrichtung, wobei die Steuereinrichtung (27) ausgebildet ist zum: Erfassen eines Teilstroms der von der wenigstens einen Emissionsspitze auf den Erdanschluss gekoppelt wird; Ermitteln einer Wirkleistung basierend auf dem Teilstrom (i1(t), i2(t), i3(t)); Erzeugen eines Status-Signals auf der Basis der errechneten Wirkleistung (i1(t), i2(t), i3(t)). Disclosed example apparatus for monitoring contaminations on discharge electrodes (3, 4, 5, 6, 7, 8), having at least one emission peak (32) that serves for the touchless discharge of electrically charged surfaces include: an earth terminal (21) that is or can be connected to the dis-charge electrode (3, 4, 5, 6, 7, 8); and a control device (27) configured to: detect a partial current coupled from the at least one emission peak to the earth terminal; determine an active power based on the partial current (i1(t), i2(t), i3(t)); and generate a status signal based on the calculated active power (i1(t), i2(t), i3(t)).