Messvorrichtung, Verfahren zum Betreiben einer maskenmetrologischen Messvorrichtung und Computerprogrammprodukt

Verfahren zum Betreiben einer maskenmetrologischen Messvorrichtung, bei der mit einem ersten Bildsensor (20) ein Bild eines Ausschnitts (20) einer Fotomaske (17) aufgenommen wird und bei dem ein Luftbild erzeugt wird, indem die mit dem Bildsensor (20) gewonnenen Bild-Rohdaten einer Clear-Normierung (45) unterzogen werden. Das Luftbild wird einer Nicht-Linearitätsanpassung unterzogen, die folgende Schritte umfasst. In Schritt a. wird das Luftbild mit einem Clear-Bild (CT2T) verrechnet (47). In einem Schritt b. wird eine Linearitätskorrektur (Plin1) auf die in Schritt a. erzeugten Bilddaten angewendet, um einen Linearitätsfehler des ersten Bildsensors (20) zu korrigieren. In einem Schritt c. wird eine Nicht-Linearitätsanpassung (P-1lin2) auf die in Schritt b. erhaltenen linearitätskorrigierten Bilddaten angewendet, um den Bilddaten eine Linearitätssignatur eines nicht im Strahlengang der Messvorrichtung angeordneten zweiten Bildsensors einzuprägen. In einem Schritt d. wird eine Clear-Normierung auf die in Schritt c. erzeugten linearitätsangepassten Bilddaten angewendet. Die Erfindung betrifft auch eine maskenmetrologische Messvorrichtung und ein Computerprogrammprodukt. Method for operating a mask-metrology measurement apparatus, wherein an image of a section of a photomask is recorded with a first image sensor and wherein an aerial image is generated by virtue of the image raw data obtained with the image sensor being subjected to a clear normalization. The aerial image is subjected to a non-linearity adaptation, which comprises the following steps. In step a., the aerial image is mathematically combined with a clear image (CT2T). In step b., linearity correction (Plin1) is applied to the image data generated in step a. to correct a linearity error of the first image sensor. In step c., a non-linearity adaptation (P−1lin2) is applied to the linearity-corrected image data obtained in step b. to imprint a linearity signature of a second image sensor not arranged in the beam path of the measurement apparatus on the image data. In step d., a clear normalization is applied to the linearity-adapted image data generated in step c. The invention also relates to a mask-metrology measurement apparatus and to a computer program product.