Lineares Führungssystem

Die vorliegende Erfindung betrifft ein lineares Führungssystem mit einem ersten Schienenelement mit einem Paar von ersten Laufflächen, einem zweiten Schienenelement mit einem Paar von zweiten Laufflächen, einem Kugelkäfig, wobei der Kugelkäfig zwei Aufnahmeschenkel und einen die zwei Aufnahmeschenkel verbindenden Kugelkäfigrücken aufweist, wobei jeder der zwei Aufnahmeschenkel jeweils eine Mehrzahl von Durchbrechungen aufweist, wobei jede Durchbrechung eine Lagerfläche aufweist und einer Mehrzahl von Lagerkugeln, wobei jede aus der Mehrzahl von Lagerkugeln einen Kugelradius und eine Symmetrieebene aufweist, wobei die Symmetrieebene durch den Mittelpunkt der Lagerkugel und sowohl senkrecht zu der Auszugsrichtung als auch senkrecht zu dem Kugelkäfigrücken verläuft, wobei jeweils eine aus der Mehrzahl von Lagerkugeln in einer aus der Mehrzahl von Durchbrechungen des Kugelkäfigs aufgenommen ist, wobei die Lagerfläche der Durchbrechung in Kontakt mit einer Kugeloberfläche der in der Durchbrechung aufgenommenen Lagerkugel ist, wobei der Kugelkäfig die Mehrzahl von Lagerkugeln zwischen den ersten Laufflächen des ersten Schienenelements und den zweiten Laufflächen des zweiten Schienenelements positioniert, so dass das erste Schienenelement und das zweite Schienenelement derart aneinander gelagert sind, dass das erste Schienenelement und das zweite Schienenelement in und entgegen einer Auszugsrichtung linear gegeneinander verschiebbar sind, wobei die Kugeloberfläche zumindest einer der in der Mehrzahl von Durchbrechungen aufgenommenen Lagerkugeln ausschließlich mit Kontaktabschnitten der Lagerfläche Kontakt ist, und wobei jeder der Kontaktabschnitte einen senkrecht zu der Symmetrieebene gemessenen maximalen Abstand von der Symmetrieebene von höchstens 75 % des Kugelradius aufweist.