EUV-Optik-Modul für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage

Ein EUV-Optik-Modul (35) für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage (1) hat mindestens eine optische Komponente (19, 21, 23, 7, M1 bis M6, 13) mit einer optischen Fläche zur Führung von EUV-Nutzstrahlung (16) von einer EUV-Quelle (3) längs eines Beleuchtungs- und/oder Abbildungs-strahlengangs der Projektionsbelichtungsanlage (1). Die optische Komponente (19, 21, 23, 7, M1 bis M6, 13) ist in einer Unterdruck-Kammer (36) untergebracht. Eine Gasquelle (37) steht über mindestens ein Ventil mit der Unterdruck-Kammer (36) in Fluidverbindung. Die Gasquelle (37) ist so ausgeführt, dass sie mindestens das nachfolgende Gas zur Verfügung stellt: Wasserstoff. Es resultiert ein EUV-Optik-Modul mit erhöhter Betriebszeit. An EUV optics module (35) for an EUV projection exposure apparatus (1) has at least one optical component (19, 21, 23, 7, M1 to M6, 13) having an optical surface for guiding of used EUV radiation (16) from an EUV source (3) along an illuminating and/or imaging beam path of the projection exposure apparatus (1). The optical component (19, 21, 23, 7, M1 to M6, 13) is accommodated in a reduced-pressure chamber (36). A gas source (37) is fluidically connected via at least one valve to the reduced-pressure chamber (36). The gas source (37) is designed such that it provides at least the following gas: hydrogen. The result is an EUV optics module having elevated operating time.