Verfahren und Vorrichtung zur Nachbehandlung einer Fluoridschicht für ein optisches Element für den VUV-Wellenlängenbereich

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Nachbehandlung einer Fluoridschicht (1) für ein optisches Element (2) für den Einsatz im VUV-Wellenlängenbereich, umfassend den Schritt: Bestrahlen der Fluoridschicht (1) mit UV/VUV-Strahlung (8) in Gegenwart eines Fluorierungswirkstoffs (FW). Die Erfindung b...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Wiegand, Alexander, Forcht, Konstantin, Isfort, Dirk, Härtling, Marcel, Lange, Felix, Sack, Christian, Schick, Katja, Sidorenko, Aleksey, Luedecke, Jens, Lundt, Nils, Sender, Maximilian
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Nachbehandlung einer Fluoridschicht (1) für ein optisches Element (2) für den Einsatz im VUV-Wellenlängenbereich, umfassend den Schritt: Bestrahlen der Fluoridschicht (1) mit UV/VUV-Strahlung (8) in Gegenwart eines Fluorierungswirkstoffs (FW). Die Erfindung betrifft auch ein optisches Element (2) mit einer Fluoridschicht (1), die mittels dieses Verfahrens nachbehandelt ist, sowie eine optische Anordnung mit mindestens einem solchen optischen Element (2).