Vorrichtung und Verfahren zur Positionierung eines optischen Elements, Messvorrichtung zur Vermessung einer optischen Oberfläche und Lithografiesystem

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Positionierung eines optischen Elements (2) aufweisend eine Messrahmeneinrichtung (3), eine Anbindungseinrichtung (4) zur Anbindung des optischen Elements (2) an die Messrahmeneinrichtung (3) sowie eine Manipulatoreinrichtung (5) zur Beeinflussung eine...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Mueller, Philip, Rief, Klaus
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR MEASURING OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TESTING TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES ORSTRUCTURES TESTING STRUCTURES OR APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Positionierung eines optischen Elements (2) aufweisend eine Messrahmeneinrichtung (3), eine Anbindungseinrichtung (4) zur Anbindung des optischen Elements (2) an die Messrahmeneinrichtung (3) sowie eine Manipulatoreinrichtung (5) zur Beeinflussung einer Lage und/oder einer Ausrichtung der Messrahmeneinrichtung (3) und damit des optischen Elements (2). Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Anbindungseinrichtung (4) wenigstens ein Anpassungsmittel (6) aufweist, um die Anbindungseinrichtung (4) an eine Ist-Form des optischen Elements (2) und/oder der Messrahmeneinrichtung (3) anzupassen.