Anordnung, Verfahren und Computerprogrammprodukt zur Kalibrierung von Facettenspiegeln

Die Erfindung betrifft eine Anordnung (100), ein Verfahren sowie ein Computerprogrammprodukt zur systemintegrierten Kalibrierung der Facettenspiegel (18, 19) eines Beleuchtungssystems (20) für die Mikrolithografie.Es werden über die Facettenspiegel (18, 19) führende Kalibrierungsstrahlengänge (103 104) zwischen einer Kalibrierungsstrahlungsquellenvorrichtung (101) und einer Kalibrierungsstrahlungssensorvorrichtung (102) definiert, an denen jeweils nur ein verschwenkbarer Mikrospiegel (18') des einzigen aus Mikrospiegeln (18') aufgebauten Facettenspiegels (18) beteiligt ist. Durch Verschwenken des an einem definierten Kalibrierungsstrahlengang (103, 104) beteiligten Mikrospiegel (18') kann anhand der Kalibrierungsstrahlungssensorvorrichtung (102) eine bestimmte optimale Schwenkposition gefunden werden, deren zugrunde liegende Orientierung des Mikrospiegels (18') sich auch geometrisch berechnen lässt. Durch den Abgleich der berechneten Orientierung mit der durch einen Orientierungssensor am Mikrospiegel (18') ermittelten Orientierung kann der Orientierungssensor des Mikrospiegels (18') des Facettenspiegels (18) kalibriert werden. The invention relates to an arrangement (100), a method and a computer program product for system-integrated calibration of the facet mirrors (18, 19) of a microlithographic illumination system (20). Calibration beam paths (103, 104) leading via the facet mirrors (18, 19) between a calibration radiation source device (101) and a calibration radiation sensor device (102) are defined, only one pivotable micromirror (18') of the single facet mirror (18) constructed from micromirrors (18') being involved in each of said calibration beam paths. By means of pivoting the micromirror (18') involved in a defined calibration beam path (103, 104), a specific optimum pivot position, whose underlying orientation of the micromirror (18') can also be calculated geometrically, can be found on the basis of the calibration radiation sensor device (102). By means of comparing the calculated orientation with the orientation determined by an orientation sensor at the micromirror (18'), the orientation sensor of the micromirror (18') of the facet mirror (18) can be calibrated.