EUV-Kollektor für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage

Ein EUV-Kollektor (17) für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage dient zur reflektierenden Überführung von EUV-Nutzlicht aus einem Quellbereich in einen räumlich vom Quellbereich beabstandeten Sammelbereich. Der EUV-Kollektor (17) hat ein Substrat (44), eine Reflexions-Nutzfläche (33) und mindestens...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Biehler, Jasmin, Witte, Matthias, Merkel, Wolfgang
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Ein EUV-Kollektor (17) für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage dient zur reflektierenden Überführung von EUV-Nutzlicht aus einem Quellbereich in einen räumlich vom Quellbereich beabstandeten Sammelbereich. Der EUV-Kollektor (17) hat ein Substrat (44), eine Reflexions-Nutzfläche (33) und mindestens eine Reflexions-Ersatzfläche (38). Die Reflexions-Ersatzfläche (38) ist so gestaltet, dass sie nach entsprechender Verlagerung des EUV-Kollektors (17) ersatzweise als Reflexions-Nutzfläche nutzbar ist. Es resultiert ein EUV-Kollektor, dessen Einsatzdauer innerhalb der Projektionsbelichtungsanlage vergrößert ist.