Lithographiesystem und optisches Element mit durchströmbaren Kanälen

Ein Aspekt der Erfindung betrifft ein Lithographiesystem, umfassend: eine Strahlungsquelle zur Erzeugung von Strahlung, insbesondere zur Erzeugung von EUV-Strahlung (16), mindestens ein optisches Element (25), umfassend: ein Substrat (26) mit einer optischen Oberfläche (27), auf die eine reflektiere...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Hellweg, Dirk, Linten, Robin, Hembacher, Stefan, Lorenz, Maike, Gleason, Cristian, Berger, Christian, Bartsch, Philipp, Monz, Thomas, Langenhorst, Malte
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Ein Aspekt der Erfindung betrifft ein Lithographiesystem, umfassend: eine Strahlungsquelle zur Erzeugung von Strahlung, insbesondere zur Erzeugung von EUV-Strahlung (16), mindestens ein optisches Element (25), umfassend: ein Substrat (26) mit einer optischen Oberfläche (27), auf die eine reflektierende Beschichtung (28) zur Reflexion von Strahlung, insbesondere von EUV-Strahlung (16), aufgebracht ist, wobei in dem Substrat (26) eine Mehrzahl von mit einem Fluid (30) durchströmbaren Kanälen (29) verläuft, die von der optischen Oberfläche (27) beabstandet sind. Ein Abstand (d) mindestens eines Kanals (29) von der optischen Oberfläche (27) und/oder ein lateraler Abstand (p) zwischen mindestens zwei der Kanäle (29) ist in Abhängigkeit von einer Leistungsdichte der auf die optische Oberfläche (27) auftreffenden Strahlung (16) der Strahlungsquelle festgelegt. Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein optisches Element (25).