Verfahren zur Vorhersage einer Abweichung zwischen einer für ein optisches Element in einem Messzustand gemessenen und einer im Betriebszustand zu erwartenden Passe

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vorhersage einer Abweichung zwischen einer für ein optisches Element in einem Messzustand gemessenen und einer im Betriebszustand zu erwartenden Passe, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: Messtechnisches Ermitteln wenigstens einer Eigenschaft des...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Conradi, Olaf, Möller, Timo, Hembacher, Stefan, Nefzi, Marwene, Ranck, Albrecht
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES ELECTROGRAPHY FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS GRINDING HOLOGRAPHY MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING MATERIALS THEREFOR MEASURING MEASURING ANGLES MEASURING AREAS MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS POLISHING TESTING TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES ORSTRUCTURES TESTING STRUCTURES OR APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vorhersage einer Abweichung zwischen einer für ein optisches Element in einem Messzustand gemessenen und einer im Betriebszustand zu erwartenden Passe, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: Messtechnisches Ermitteln wenigstens einer Eigenschaft des optischen Elements, Simulation sowohl des Messzustandes als auch des Betriebszustandes auf Basis dieser Eigenschaft, und Vorhersage einer Abweichung zwischen einer für das optisches Element im Messzustand gemessenen Passe und einer für das optische Element im Betriebszustand zu erwartenden Passe auf Basis dieser Simulation, wobei das messtechnische Ermitteln wenigstens einer Eigenschaft des optischen Elements unter Durchführung einer Mehrzahl unterschiedlicher physikalischer Messverfahren erfolgt.