ENTSPIEGELUNG VON OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR LITHOGRAPHIESYSTEME ÜBER EINEN GROSSEN LICHTEINFALLSWINKELBEREICH MITTELS EINER NANOSTRUKTURIERUNG DER OBERFLÄCHE
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eine optischen Elements sowie ein entsprechendes optisches Element mit einer Antireflexionsoberfläche (1), das über der Antireflexionsoberfläche (1) verteilt periodisch angeordnete Erhebungen (3) und Vertiefungen (4) aufweist, wobei je...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | ger |
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| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | Six, Stephan |
| description | Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eine optischen Elements sowie ein entsprechendes optisches Element mit einer Antireflexionsoberfläche (1), das über der Antireflexionsoberfläche (1) verteilt periodisch angeordnete Erhebungen (3) und Vertiefungen (4) aufweist, wobei jede Erhebung (3) eine Basis (6) an einer Substratseite der Erhebung (3) und eine gegenüber liegende Spitze (5) aufweist, die durch eine Mantelfläche (8,9) verbunden sind, die jede Erhebung (3) seitlich begrenzt, wobei die Erhebungen (3) jeweils eine spitz zulaufende Form aufweisen und die Mantelfläche (8,9) eine zur Spitze (5) zunehmende Steigung gegenüber der Basis (6) aufweist. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_DE102022206465A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>DE102022206465A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_DE102022206465A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNqNjkGKwkAQRbNxITp36I1LIUbNPpNU0oVld-iqKLMSGXpWogE9gscQL5OLWTPMAVz94v1X8MfJE5xwi9AAda4xO--MbwW5tOAMEGy116seHsEQivVNKFqLwF8sWprh8QnBADqVmuCZNQlLK4rqgoj36DZAKoFSs0URIP57CMYVzrOEbiNdQAi_AyrFXu2ahrtumCajn-PpGj_-c5LMapDSzmN_OcRrf_yO53g7VLBIszTLsjRf5etisXzXewGGhkmE</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>ENTSPIEGELUNG VON OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR LITHOGRAPHIESYSTEME ÜBER EINEN GROSSEN LICHTEINFALLSWINKELBEREICH MITTELS EINER NANOSTRUKTURIERUNG DER OBERFLÄCHE</title><source>esp@cenet</source><creator>Six, Stephan</creator><creatorcontrib>Six, Stephan</creatorcontrib><description>Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eine optischen Elements sowie ein entsprechendes optisches Element mit einer Antireflexionsoberfläche (1), das über der Antireflexionsoberfläche (1) verteilt periodisch angeordnete Erhebungen (3) und Vertiefungen (4) aufweist, wobei jede Erhebung (3) eine Basis (6) an einer Substratseite der Erhebung (3) und eine gegenüber liegende Spitze (5) aufweist, die durch eine Mantelfläche (8,9) verbunden sind, die jede Erhebung (3) seitlich begrenzt, wobei die Erhebungen (3) jeweils eine spitz zulaufende Form aufweisen und die Mantelfläche (8,9) eine zur Spitze (5) zunehmende Steigung gegenüber der Basis (6) aufweist.</description><language>ger</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS ; OPTICS ; ORIGINALS THEREFOR ; PERFORMING OPERATIONS ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCESIN A PLASTIC STATE ; TRANSPORTING ; WORKING OF PLASTICS ; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE, IN GENERAL</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20230629&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102022206465A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20230629&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102022206465A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Six, Stephan</creatorcontrib><title>ENTSPIEGELUNG VON OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR LITHOGRAPHIESYSTEME ÜBER EINEN GROSSEN LICHTEINFALLSWINKELBEREICH MITTELS EINER NANOSTRUKTURIERUNG DER OBERFLÄCHE</title><description>Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eine optischen Elements sowie ein entsprechendes optisches Element mit einer Antireflexionsoberfläche (1), das über der Antireflexionsoberfläche (1) verteilt periodisch angeordnete Erhebungen (3) und Vertiefungen (4) aufweist, wobei jede Erhebung (3) eine Basis (6) an einer Substratseite der Erhebung (3) und eine gegenüber liegende Spitze (5) aufweist, die durch eine Mantelfläche (8,9) verbunden sind, die jede Erhebung (3) seitlich begrenzt, wobei die Erhebungen (3) jeweils eine spitz zulaufende Form aufweisen und die Mantelfläche (8,9) eine zur Spitze (5) zunehmende Steigung gegenüber der Basis (6) aufweist.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</subject><subject>OPTICS</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCESIN A PLASTIC STATE</subject><subject>TRANSPORTING</subject><subject>WORKING OF PLASTICS</subject><subject>WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE, IN GENERAL</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2023</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNjkGKwkAQRbNxITp36I1LIUbNPpNU0oVld-iqKLMSGXpWogE9gscQL5OLWTPMAVz94v1X8MfJE5xwi9AAda4xO--MbwW5tOAMEGy116seHsEQivVNKFqLwF8sWprh8QnBADqVmuCZNQlLK4rqgoj36DZAKoFSs0URIP57CMYVzrOEbiNdQAi_AyrFXu2ahrtumCajn-PpGj_-c5LMapDSzmN_OcRrf_yO53g7VLBIszTLsjRf5etisXzXewGGhkmE</recordid><startdate>20230629</startdate><enddate>20230629</enddate><creator>Six, Stephan</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20230629</creationdate><title>ENTSPIEGELUNG VON OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR LITHOGRAPHIESYSTEME ÜBER EINEN GROSSEN LICHTEINFALLSWINKELBEREICH MITTELS EINER NANOSTRUKTURIERUNG DER OBERFLÄCHE</title><author>Six, Stephan</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_DE102022206465A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>ger</language><creationdate>2023</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</topic><topic>OPTICS</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCESIN A PLASTIC STATE</topic><topic>TRANSPORTING</topic><topic>WORKING OF PLASTICS</topic><topic>WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE, IN GENERAL</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>Six, Stephan</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>Six, Stephan</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>ENTSPIEGELUNG VON OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR LITHOGRAPHIESYSTEME ÜBER EINEN GROSSEN LICHTEINFALLSWINKELBEREICH MITTELS EINER NANOSTRUKTURIERUNG DER OBERFLÄCHE</title><date>2023-06-29</date><risdate>2023</risdate><abstract>Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eine optischen Elements sowie ein entsprechendes optisches Element mit einer Antireflexionsoberfläche (1), das über der Antireflexionsoberfläche (1) verteilt periodisch angeordnete Erhebungen (3) und Vertiefungen (4) aufweist, wobei jede Erhebung (3) eine Basis (6) an einer Substratseite der Erhebung (3) und eine gegenüber liegende Spitze (5) aufweist, die durch eine Mantelfläche (8,9) verbunden sind, die jede Erhebung (3) seitlich begrenzt, wobei die Erhebungen (3) jeweils eine spitz zulaufende Form aufweisen und die Mantelfläche (8,9) eine zur Spitze (5) zunehmende Steigung gegenüber der Basis (6) aufweist.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | ger |
| recordid | cdi_epo_espacenet_DE102022206465A1 |
| source | esp@cenet |
| subjects | APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCESIN A PLASTIC STATE TRANSPORTING WORKING OF PLASTICS WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE, IN GENERAL |
| title | ENTSPIEGELUNG VON OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR LITHOGRAPHIESYSTEME ÜBER EINEN GROSSEN LICHTEINFALLSWINKELBEREICH MITTELS EINER NANOSTRUKTURIERUNG DER OBERFLÄCHE |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2024-12-21T02%3A48%3A28IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=Six,%20Stephan&rft.date=2023-06-29&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EDE102022206465A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |