ENTSPIEGELUNG VON OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR LITHOGRAPHIESYSTEME ÜBER EINEN GROSSEN LICHTEINFALLSWINKELBEREICH MITTELS EINER NANOSTRUKTURIERUNG DER OBERFLÄCHE

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eine optischen Elements sowie ein entsprechendes optisches Element mit einer Antireflexionsoberfläche (1), das über der Antireflexionsoberfläche (1) verteilt periodisch angeordnete Erhebungen (3) und Vertiefungen (4) aufweist, wobei je...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Six, Stephan
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCESIN A PLASTIC STATE TRANSPORTING WORKING OF PLASTICS WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE, IN GENERAL
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eine optischen Elements sowie ein entsprechendes optisches Element mit einer Antireflexionsoberfläche (1), das über der Antireflexionsoberfläche (1) verteilt periodisch angeordnete Erhebungen (3) und Vertiefungen (4) aufweist, wobei jede Erhebung (3) eine Basis (6) an einer Substratseite der Erhebung (3) und eine gegenüber liegende Spitze (5) aufweist, die durch eine Mantelfläche (8,9) verbunden sind, die jede Erhebung (3) seitlich begrenzt, wobei die Erhebungen (3) jeweils eine spitz zulaufende Form aufweisen und die Mantelfläche (8,9) eine zur Spitze (5) zunehmende Steigung gegenüber der Basis (6) aufweist.