HALBLEITERVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER HALBLEITERVORRICHTUNG

Die vorliegende Offenbarung betrifft eine Halbleitervorrichtung und ein Verfahren zur Herstellung der Halbleitervorrichtung. Die Halbleitervorrichtung umfasst eine Stapelstruktur mit mehreren Zwischenschicht-Isolierschichten und mehreren leitenden Gate-Schichten, die abwechselnd gestapelt sind, eine...

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Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Bang, Byeong Chan, Park, Jin Taek, Lee, Jeong Yun
Format: Patent
Sprache:ger
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