Vorrichtung und Verfahren zur Ausrichtung von zwei Komponenten

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Ausrichtung von zwei Komponenten (31,33) einer Projektionsbelichtungsanlage (1,101) für die Halbleiterlithografie, die sich dadurch auszeichnet, dass die Vorrichtung einen Spanndorn (30) umfasst. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Ausrichtu...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Schweigert, Eduard
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BORING CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACHINE TOOLS MATERIALS THEREFOR METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TRANSPORTING TURNING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Ausrichtung von zwei Komponenten (31,33) einer Projektionsbelichtungsanlage (1,101) für die Halbleiterlithografie, die sich dadurch auszeichnet, dass die Vorrichtung einen Spanndorn (30) umfasst. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Ausrichtung von zwei Komponenten (31,33) einer Projektionsbelichtungsanlage (1,101) für die Halbleiterlithografie, wobei die Ausrichtung die Verwendung eines Spandorns (30,50) umfasst.