OPTISCHES SYSTEM UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE

Ein optisches System (100A, 100B, 100C) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend ein optisches Element (102) mit einer optisch wirksamen Fläche (106), die dazu geeignet ist, Beleuchtungsstrahlung (16) zu reflektieren, und eine der optisch wirksamen Fläche (106) zugewandte Wärmesenke (11...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Hofmaier, Andreas, Gerhold, Ingo, Feygin, Mark, Zemann, Daniel, Mitev, Vladimir
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Ein optisches System (100A, 100B, 100C) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend ein optisches Element (102) mit einer optisch wirksamen Fläche (106), die dazu geeignet ist, Beleuchtungsstrahlung (16) zu reflektieren, und eine der optisch wirksamen Fläche (106) zugewandte Wärmesenke (114) zum Entziehen von durch die Beleuchtungsstrahlung (16) in die optisch wirksame Fläche (106) eingebrachter Wärme (Q) aus der optisch wirksamen Fläche (106), wobei eine Übertragung der Wärme (Q) von der optisch wirksamen Fläche (106) zu der Wärmesenke (114) nur mit Hilfe von Wärmestrahlung erfolgt.