INNENGEHÄUSEANORDNUNG FÜR EINE OPTISCHE ANORDNUNG

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Innengehäuseanordnung für eine optische Anordnung, insbesondere für eine optische Anordnung für die Mikrolithographie, sowie eine entsprechende optische Anordnung und ein Verfahren zum Betrieb derselben, wobei die Innengehäuseanordnung mindestens zwei Innengeh...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Ehm, Dirk, Focht, Gerhard, Modeste, Benjahman Julius, Graber, Tina, Kugler, Jens, Bauer, Johannes, Zweering, Ralf
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die vorliegende Erfindung betrifft eine Innengehäuseanordnung für eine optische Anordnung, insbesondere für eine optische Anordnung für die Mikrolithographie, sowie eine entsprechende optische Anordnung und ein Verfahren zum Betrieb derselben, wobei die Innengehäuseanordnung mindestens zwei Innengehäuseteile (25a, 25b) umfasst, die einen Raum für ein Strahlenbündel der optischen Anordnung umgeben und beabstandet zueinander angeordnet sind, sodass mindestens ein Spalt (26) zwischen den Innengehäuseteilen (25a, 25b) ausgebildet ist, wobei in dem Spalt (26) zwischen den mindestens zwei Innengehäuseteilen (25a, 25b) mindestens ein elastisches Element (27) angeordnet ist.