Optisches System für die Projektionslithographie

Ein optisches System für die Projektionslithographie hat eine innerhalb einer Durchstimmbandbreite durchstimmbare Lichtquelle für Beleuchtungslicht (3) zur Beleuchtung eines Objektfeldes (4), in dem ein abzubildendes Objekt (10) anordenbar ist. Eine abbildende Optik (7) dient zur Abbildung des Objektfeldes (4) in ein Bildfeld (8), in dem ein Substrat (11) anordenbar ist, längs eines Abbildungsstrahlengangs. Das optische System hat eine Mehrzahl von Linsen (21 bis 23, 28, 29, 31 bis 39) mit Grundkörpern aus genau einem Linsenmaterial. Zwischenräume (45) zwischen jeweils im Abbildungsstrahlengang benachbarten optischen Komponenten der abbildenden Optik (7) sind mit einem Gas gefüllt. Die Lichtquelle steht mit einer Durchstimm-Steuerung (43) zur Vorgabe einer Ist-Beleuchtungswellenlänge innerhalb der Durchstimmbandbreite in Signalverbindung. Die Durchstimm-Steuerung (43) steht mit einem Drucksensor (46) zur Messung eines Ist-Drucks des Gases in mindestens einem der Zwischenräume (45) in Signalverbindung. Die Durchstimm-Steuerung (43) ist als Regeleinrichtung derart ausgeführt, dass sie die Ist-Beleuchtungswellenlänge abhängig vom gemessenen Ist-Druck des Gases nachführt. Es resultiert ein optisches System, dessen Betriebsaufwand reduziert ist, ohne dass hierunter eine Abbildungsqualität der abbildenden Optik leidet.