Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mit einer optischen Wirkfläche (711), einem Spiegelsubstrat (712), einem Reflexionsschichtsystem (721) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche auftreffender elektromagnetischer Strahlung, wenigstens einer piezoelektrischen Schicht (716), welche zwischen Spiegelsubstrat und Reflexionsschichtsystem angeordnet und über eine erste, auf der dem Reflexionsschichtsystem zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung und eine zweite, auf der dem Spiegelsubstrat zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung mit einem elektrischen Feld zur Erzeugung einer lokal variablen Deformation beaufschlagbar ist, und wenigstens einer Regelungskomponente zur Regelung einer auf die piezoelektrische Schicht aufgebrachten elektrischen Ladung. The invention relates to a mirror, in particular for a microlithographic projection exposure system, having an optical active surface (711), a mirror substrate (712), a reflective layer system (721) for reflecting electromagnetic radiation incident on the optical active surface, at least one piezoelectric layer (716), which is arranged between the mirror substrate and the reflective layer system and can be acted on by an electric field for generating a locally variable deformation via a first electrode arrangement located on the side of the piezoelectric layer facing the reflective layer system and a second electrode arrangement located on the side of the piezoelectric layer facing the mirror substrate, and at least one control component for controlling an electrical charge applied to the piezoelectric layer.