Verfahren zum Heizen eines optischen Elements sowie optisches System

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein optisches System. Bei einem erfindungsgemäßen Verfahren wird in das optische Element (200) zur Erzeugung einer therm...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Weiss, Werner, Dirauf, André, Raab, Maximilian, Letscher, Fabian, Holtkemper, Matthias, Langenhorst, Malte
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein optisches System. Bei einem erfindungsgemäßen Verfahren wird in das optische Element (200) zur Erzeugung einer thermisch induzierten Deformation eine Heizleistung unter Verwendung eines thermischen Manipulators (210) eingebracht, wobei diese Heizleistung vor Aufnahme eines Betriebs des optischen Systems, in welchem Nutzlicht auf das optische Element trifft, im Hinblick auf einen Sollzustand des optischen Elements eingestellt wird, in welchem erste optische Aberration wenigstens teilweise kompensiert wird, und wobei nach Aufnahme des Betriebs des optischen Systems eine Regelung der Heizleistung auf den Sollzustand in Abhängigkeit von der Wärmelast des auf das optische Element treffenden Nutzlichts erfolgt.