Verfahren und Dampfverteilungsvorrichtung
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren (400) aufweisen: Ermitteln (401) einer Angabe, die eine räumliche Verteilung eines Materialdampfstroms, welcher von einer Vielzahl von Emissionsdüsen (106a) emittiert wird, repräsentiert; Ansteuern (403) eines Stellglieds (404), welches einger...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren (400) aufweisen: Ermitteln (401) einer Angabe, die eine räumliche Verteilung eines Materialdampfstroms, welcher von einer Vielzahl von Emissionsdüsen (106a) emittiert wird, repräsentiert; Ansteuern (403) eines Stellglieds (404), welches eingerichtet ist, einen Gasstrom, der dem Materialdampfstrom überlagert wird, zu beeinflussen, basierend auf
Disclosed herein are devices, systems, and methods for gas distribution in a coating process. The system may determine information representing a spatial distribution of a material vapor flow emitted from a plurality of emission nozzles. The system may control a regulator configured to affect, based on the information, a gas flow superposed on the material vapor flower. In this manner, it may be easier to counteract disturbances in the spatial distribution with which the material vapor flow exits from the plurality of emission nozzles, disturbances due to, for example, variations in the characteristics of the emission nozzles, flow-related variations in the tube, finite tube length, and the like. |
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