ROHMASKE UND FOTOMASKE UNTER VERWENDUNG DIESER ROHMASKE

Die vorliegende Offenbarung betrifft eine Rohmaske und dergleichen umfassend ein transparentes Substrat und einen Lichtabschirmfilm, der auf dem transparenten Substrat angeordnet ist. Der Lichtabschirmfilm umfasst ein Übergangsmetall und mindestens eines der Elemente Sauerstoff und/oder Stickstoff. Ein SA1-Wert des Lichtabschirmfilms gemäß Gleichung 1-1 beträgt 60 bis 90 mN/m.SA1=γSL×tanθIn der Gleichung 1-1 ist der γSL-Wert eine Grenzflächenenergie zwischen dem Lichtabschirmfilm und reinem Wasser, und θ ist ein Kontaktwinkel des Lichtabschirmfilms, gemessen mit reinem Wasser.Eine derartige Rohmaske und dergleichen werden ausgezeichnet gereinigt, wenn ein Lichtabschirmfilm mit einer Reinigungslösung gereinigt wird. Zusätzlich kann eine Beschädigung des Lichtabschirmfilms durch nach der Reinigung verbleibende Reinigungslösung wirksam vermieden werden. A blank mask including: a transparent substrate and a light shielding film disposed on the transparent substrate, wherein the light shielding film includes a transition metal and at least one of oxygen and nitrogen, and wherein the light shielding film has an SA1 value of 60 to 90 mN/m according to Equation 1-1:SA1=γSL×tan θ [Equation 1-1]where, in the Equation 1-1, the γSL is an interfacial energy between the light shielding film and a pure water and θ is a contact angle of the light shielding film measured with the pure water, is disclosed.