Optische Komponente sowie optisches System, insbesondere für die Mikrolithographie

Die Erfindung betrifft eine optische Komponente sowie ein optisches System, insbesondere für die Mikrolithographie. Eine erfindungsgemäße optische Komponente weist einen erstes Schichtsystem (210, 710, 810, 910, 1010), welches bei Beaufschlagung mit elektromagnetischer Strahlung einen ersten wellenl...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Wolke, Conrad, Erxmeyer, Jeffrey, Lundt, Nils, Hermann, Martin
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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