Optische Komponente sowie optisches System, insbesondere für die Mikrolithographie

Die Erfindung betrifft eine optische Komponente sowie ein optisches System, insbesondere für die Mikrolithographie. Eine erfindungsgemäße optische Komponente weist einen erstes Schichtsystem (210, 710, 810, 910, 1010), welches bei Beaufschlagung mit elektromagnetischer Strahlung einen ersten wellenlängenabhängigen Reflektivitätsverlauf aufweist, und wenigstens einen zweites Schichtsystem (220, 720, 820, 920, 1020), welches bei Beaufschlagung mit elektromagnetischer Strahlung einen zweiten wellenlängenabhängigen Reflektivitätsverlauf aufweist, auf, wobei das erste Schichtsystem (210, 710, 810, 910, 1010) und das zweite Schichtsystem (220, 720, 820, 920, 1020) auf unterschiedlichen optischen Flächen angeordnet sind, und wobei die Wellenlängenabhängigkeiten des ersten und des zweiten Reflektivitätsverlaufs einander derart wenigstens teilweise kompensieren, dass für eine für das erste Schichtsystem (210, 710, 810, 910, 1010) und das wenigstens eine zweite Schichtsystem (220, 720, 820, 920, 1020) in Summe resultierende Reflektivität in dem vorgegebenen Wellenlängenbereich die relative Abweichung von einem gewünschten, in Bezug auf die Wellenlänge linearen oder konstanten Reflektivitätsverlauf maximal 5% beträgt. The invention relates to an optical component and an optical system, in particular for microlithography. An optical component according to the invention comprises a first layer system (210, 710, 810, 910, 1010) which exhibits a first wavelength-dependent reflectivity curve when electromagnetic radiation impinges thereon, and at least one second layer system (220, 720, 820, 920, 1020) which exhibits a second wavelength-dependent reflectivity curve when electromagnetic radiation impinges thereon, wherein the first layer system (210, 710, 810, 910, 1010) and the second layer system (220, 720, 820, 920, 1020) are arranged on different optical surfaces, and wherein the wavelength dependencies of the first and the second reflectivity curve at least partially compensate one another in such a way that the relative deviation from a desired reflectivity curve which is linear or constant with respect to the wavelength is no more than 5% within the specified wavelength range for a resultant summated reflectivity for the first layer system (210, 710, 810, 910, 1010) and the at least one second layer system (220, 720, 820, 920, 1020).