Schichtsystem, beschichtetes Substrat umfassend das Schichtsystem, Verfahren zum Beschichten der Oberfläche eines Substrats mit dem Schichtsystem sowie Verwendung des Schichtsystems

Beschrieben wird ein Schichtsystem umfassend eine DLC-Schicht a) mit einer Schichtdicke von ≥ 1,2 µm und eine Schicht b) zur Erzeugung einer Dickschichtinterferenz mit einer Schichtdicke von ≥ 2,6 µm. Ferner beschrieben wird ein beschichtetes Substrat, umfassend das Schichtsystem, sowie ein Verfahre...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Salz, Dirk, Vissing, Klaus-Dieter
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL LAYERED PRODUCTS LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT ORNON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM METALLURGY PERFORMING OPERATIONS SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Beschrieben wird ein Schichtsystem umfassend eine DLC-Schicht a) mit einer Schichtdicke von ≥ 1,2 µm und eine Schicht b) zur Erzeugung einer Dickschichtinterferenz mit einer Schichtdicke von ≥ 2,6 µm. Ferner beschrieben wird ein beschichtetes Substrat, umfassend das Schichtsystem, sowie ein Verfahren zum Beschichten der Oberfläche eines Substrats mit einem erfindungsgemäßen Schichtsystem und die Verwendung eines erfindungsgemäßen Schichtsystems als Antireflexbeschichtung und/oder als Ersatz für eine Eloxal-Beschichtung.