HALBLEITERVORRICHTUNG MIT KONTAKT-PAD-STRUKTUR
Vorgeschlagen wird eine Halbleitervorrichtung. Die Halbleitervorrichtung (100) enthält eine Kontakt-Pad-Struktur (102) über einer ersten Oberfläche (106) eines Halbleiterkörpers (108). Die Halbleitervorrichtung enthält ferner eine dielektrische Struktur (110), die eine Seitenwand (112) und einen Gre...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | ger |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | Vorgeschlagen wird eine Halbleitervorrichtung. Die Halbleitervorrichtung (100) enthält eine Kontakt-Pad-Struktur (102) über einer ersten Oberfläche (106) eines Halbleiterkörpers (108). Die Halbleitervorrichtung enthält ferner eine dielektrische Struktur (110), die eine Seitenwand (112) und einen Grenzbereich (114) auf einer oberen Oberfläche (116) der Kontakt-Pad-Struktur (102) bedeckt, wobei die dielektrische Struktur (110) einen dielektrischen Spacer (1101) an der Seitenwand (112) der Kontakt-Pad-Struktur (102) enthält.
A semiconductor device is proposed. The semiconductor device includes a contact pad structure over a first surface of a semiconductor body. The semiconductor device further includes a dielectric structure lining a sidewall and a boundary area on a top surface of the contact pad structure, wherein the dielectric structure includes a dielectric spacer at the sidewall of the contact pad structure. |
---|