Optisches System, insbesondere zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie, und Strahlteiler zur Verwendung in einem solchen optischen System

Die Erfindung betrifft ein optisches System, insbesondere zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie, mit einer Lichtquelle (101, 201, 251) zur Erzeugung von Licht einer Wellenlänge von weniger als 30 nm, einem von der Lichtquelle zu einer Objektebene führenden Beleuchtungsstrahlengang, einem von der Objektebene zu einer Bildebene führenden Abbildungsstrahlengang, und einem Strahlteiler (103, 205, 254), über welchen sowohl der Beleuchtungsstrahlengang als auch der Abbildungsstrahlengang verlaufen. The invention relates to an optical system and, in particular for characterizing a microlithography mask, comprising a light source for generating light of a wavelength of less than 30 nm, an illumination beam path leading from the light source to an object plane, an imaging beam path leading from the object plane to an image plane and a beam splitter, via which both the illumination beam path and the imaging beam path run.