Einsatz für eine Quellkammer einer EUV-Strahlungsquelle

Ein Einsatz (11) für eine Quellkammer (2) einer EUV-Strahlungsquelle (1) weist eine Druckstufe (12) und eine hiervon beabstandete Blende (13) auf. An insert for a source chamber of an EUV radiation source has a pressure stage and, spaced apart from it, a stop.

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Pilch, Iris, Hasbun Wood, Juan Jose, Hagg, Michael, Metzmacher, Christof
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY PLASMA TECHNIQUE PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS X-RAY TECHNIQUE
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Ein Einsatz (11) für eine Quellkammer (2) einer EUV-Strahlungsquelle (1) weist eine Druckstufe (12) und eine hiervon beabstandete Blende (13) auf. An insert for a source chamber of an EUV radiation source has a pressure stage and, spaced apart from it, a stop.