Legierung, Pulver, Verfahren und Bauteil

Die Erfindung betrifft eine nickelbasierte Legierung, aufweisend, insbesondere bestehend aus (in Gew.-%):Kohlenstoff (C): 0,07% - 0,09%,insbesondere 0,08% - 0,09%,ganz insbesondere 0,08%,Chrom (Cr) : 9, 0% - 10,0%,insbesondere 9,3% - 9,7%,ganz insbesondere 9,5%,Kobalt (Co): 9,6% - 10,4%,insbesondere...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Draa, Phillip, Kapustina, Anna, Snider, Raymond G, Lüsebrink, Oliver, Grüger, Birgit, Depka, Timo, Patel, Kirtan
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Die Erfindung betrifft eine nickelbasierte Legierung, aufweisend, insbesondere bestehend aus (in Gew.-%):Kohlenstoff (C): 0,07% - 0,09%,insbesondere 0,08% - 0,09%,ganz insbesondere 0,08%,Chrom (Cr) : 9, 0% - 10,0%,insbesondere 9,3% - 9,7%,ganz insbesondere 9,5%,Kobalt (Co): 9,6% - 10,4%,insbesondere 10,0%,Molybdän (Mo): 1,3% - 1,7%,insbesondere 1,5%,Wolfram (W): 3,0% - 3,4%,insbesondere 3,2%,Titan (Ti): 1,9% - 2,3%,insbesondere 2,1%,Aluminium (Al) : 5,6% - 6,3%,insbesondere 5,9%,Bor (B): 0,008% - 0,012%,insbesondere 0,01%,Zirkon (Zr): 0,01% - 0,012%,Tantal (Ta): 1,0% - 1,4%,insbesondere 1,2%,Niob (Nb) : 0, 8% - 1,0%,insbesondere 0,9%,Silizium (Si): bis zu 0,011%,Vanadium (V): 0,8% - 1,0%,insbesondere 0,9%,Hafnium (Hf): 1,2% - 1,4%,insbesondere 1,3%,kein Rhenium (Re)und/oderkein Ruthenium (Ru),Nickel (Ni),insbesondere Rest Nickel (Ni), restliche Verunreinigungen bis 0,1%. A nickel-based alloy of (in wt. %): carbon (C): 0.07%-0.09%, in particular 0.08%-0.09%, most particularly 0.08%, chromium (Cr): 9.0%-10.0%, in particular 9.3%-9.7%, most particularly 9.5%, cobalt (Co): 9.6%-10.4%, in particular 10.0%, molybdenum (Mo): 1.3%-1.5%, in particular 1.5%, tungsten (W): 3.0%-3.4%, in particular 3.2%, titanium (Ti): 1.9%-2.3%, in particular 2.1%, aluminum (Al): 5.6%-6.3%, in particular, boron (B): 0.008%-0.012%, in particular, zirconium (Zr): 0.01%-0.012%, tantalum (Ta): 1.0%-1.4%, in particular, niobium (Nb): 0.8%-1.0%, in particular 0.9%, silicon (Si): up to 0.011%, vanadium (V): 0.8%-1.0%, in particular 0.9%, hafnium (Hf): 1.2%-1.4%, in particular 1.3%, no rhenium (Re) and/or no ruthenium (Ru), nickel (Ni), in particular residual nickel (Ni), residual impurities up to 0.1%.